《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
100 积分
50
评分
4.3 积分- 详情
- 2021-04-27
- 简介
pdf
- 71KB
- 页数 1P
- 阅读 87
- 下载 34
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书：《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容：薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积（CVD）、离子注入与离子辅助沉积技术、ITO导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜机各机构元件的设计计算、设计参数的选择，其中还重点系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和膜厚均匀性设计。
