熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析
100 积分
50
评分
4.6 积分- 详情
- 2021-04-28
- 简介
pdf
- 760KB
- 页数 4P
- 阅读 74
- 下载 25
利用熔融稀土铈(Ce)对CVD金刚石厚膜进行了抛光研究。详细讨论了工艺参数对抛光速率和表面粗糙度Ra的影响,获得了最佳抛光工艺。通过对抛光后金刚石膜表面的拉曼光谱(Raman)、俄歇能谱(AES)、扫描电镜(SEM)以及能谱(EDS)的分析,探讨了抛光机理。结果表明:该方法有很高的抛光速率,可达每小时数百微米。抛光后金刚石膜的Ra从10.845μm降低至0.6553μm。抛光的热处理工艺不但没有破坏金刚石表面的原始结构,而且由于铈对石墨的优先刻蚀,抛光后金刚石膜表面的石墨含量还大大减少。
对不起，您暂无在线预览权限，如需浏览请
立即登录热门商品
相关推荐
熔融铈快速抛光CVD金刚石厚膜及表面分析 760KB
CVD金刚石厚膜的机械抛光研究 944KB
CVD金刚石厚膜的机械抛光及其残余应力的分析 589KB
金刚石表面特性及表面金属化 14.1MB
CVD金刚石薄膜涂层轴承支撑器的制备和应用 820KB
大面积CVD金刚石膜的热铁板抛光 332KB
CVD金刚石涂层煤液化减压阀关键部件的制备 721KB
纺纱钢领的金刚石抛光 409KB
金刚石砂轮表面形貌测量系统 419KB
掺硼金刚石厚膜电极污水处理实验研究 569KB