采用反相位线性结构光栅编码的相移测量三维轮廓术
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- 2021-09-20
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研究了一种线性周期编码光栅的三维轮廓术，其中采用了两个相位相反的线性周期变化的光栅光场和一个均匀光场，对被测物体进行三次采样。在获得物轮廓的同时，又获得了物体的表面纹理。当背影光很暗时，经过两次采样即可获得物体的三维轮廓。通过理论分析，采用相位相反的线性周期光栅光场与相位相差１／２周期的线笥周期光栅光场相比，检测粗度可以提高近１倍。
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