用于太阳能电池的多晶硅激光表面织构化研究
100 积分
50
评分
4.5 积分- 详情
- 2021-04-28
- 简介
pdf
- 1.9MB
- 页数 6P
- 阅读 80
- 下载 37
介绍了利用激光制备多晶硅表面织构的研究结果。采用激光在硅片表面刻蚀,然后利用化学方法去除残渣和损伤,制得均匀的表面陷光结构。通过扫描电子显微镜,HitachiU-4100分光光度计和Semilab WT2000少子寿命仪分析了表面织构化后硅片的表面形貌、反射率和少子寿命。通过调节激光和化学腐蚀参数得到很好的陷光效果,表面反射率最低可以降到约10%。但是激光刻蚀对硅片性能仍有一定损伤,有待改进。激光表面织构为多晶硅的减反射处理提供有效的途径。
对不起，您暂无在线预览权限，如需浏览请
立即登录热门商品
相关推荐
用于太阳能电池的多晶硅激光表面织构化研究 1.9MB
太阳能电池及多晶硅的生产 825KB
多晶硅太阳能电池 47KB
多晶硅太阳能电池 47KB
多晶硅太阳能电池 73KB
多晶硅太阳能电池工艺 14KB
太阳能电池用多晶硅晶界的EBSD研究 226KB
太阳能电池用铸造多晶硅的碳浓度分布研究 244KB
多晶硅太阳能电池研究进展 4.1MB
多晶硅太阳能电池的领导者 1.7MB