高纯铝片抛光工艺及对氧化铝模板的影响
100 积分
50
评分
4.5 积分- 详情
- 2021-04-28
- 简介
pdf
- 2.2MB
- 页数 5P
- 阅读 88
- 下载 39
在多孔阳极氧化铝(Porous anodic alumina,PAA)制备过程中,为了得到更稳定的电解过程,实现高度有序的纳米孔阵列结构,对高纯铝片表面进行抛光是一个典型的、必要的步骤。为此系统研究了高氯酸/乙醇抛光液体系在不同电压(1,5,10,20V和25V)和不同时间(10,60s和180s)下的抛光工艺,以及抛光对高纯铝片表面以及PAA的影响,获得用于制备PAA模板较合适的抛光工艺,即抛光电压为10V,抛光时间为180s。
对不起，您暂无在线预览权限，如需浏览请
立即登录热门商品
相关推荐
高纯铝片抛光工艺及对氧化铝模板的影响 2.2MB
强烈阳极氧化法快速制备多孔氧化铝模板 472KB
多孔氧化铝模板组装纳米消光材料 391KB
高电压下阳极氧化铝模板的快速制备 807KB
改性超细氧化铝对抛光磨料耐磨性的影响 546KB
恒流法制备图案化的阳极氧化铝模板 1.3MB
玻璃基底上多孔氧化铝模板的制备 406KB
双通AAO多孔阳极氧化铝模板 1.5MB
氧化铝模板电沉积功能纳米材料研究进展 731KB